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lithographie par ultraviolets extrêmes

Domaines
  1. physiqueoptique
  2. électronique
  3. nanotechnologie
Auteur
Office québécois de la langue française
Dernière mise à jour
2005
  • Accéder à la fiche en anglais : extreme ultraviolet lithography
  • Accéder à la fiche en catalan : litografia per raigs ultraviolats extrems
  • Accéder à la fiche en espagnol : litografía ultravioleta extrema
  • Accéder à la fiche en italien : litografia a ultravioletti estremi
  • Accéder à la fiche en portugais : litografia de ultravioletas extremos
  • Accéder à la fiche en roumain : litografie soft X-ray

Définition :

Technique de lithographie dans laquelle on utilise des rayons électromagnétiques, d'une longueur d'onde pouvant varier entre 10 et 14 nanomètres, pour reproduire le motif d'une structure nanométrique dans une résine sensible, vers laquelle ils sont dirigés à travers un masque par un système de miroirs.

Note :

Cette fiche fait partie du vocabulaire Réinventer le monde par la nanotechnologie.

Termes privilégiés :

lithographie par ultraviolets extrêmes n. f.
lithographie aux ultraviolets extrêmes n. f.
lithographie ultraviolet extrême n. f.
lithographie UV extrême n. f.
lithographie EUV n. f.
lithographie par rayons X mous n. f.

Plusieurs auteurs emploient également le terme lithographie par rayons X mous pour désigner cette technique nouvelle parce que, sur l'échelle des ondes électromagnétiques, la limite qui sépare les rayons ultraviolets extrêmes des rayons X mous est approximative, et que la longueur d'onde utilisée pour ce type de nanolithographie se situe tout près de cette limite.

Traductions

  • anglais

    Auteur : Office québécois de la langue française, 2005

    Termes :

    1. extreme ultraviolet lithography
    2. extreme UV lithography
    3. EUV lithography
    4. soft X-ray lithography

    Plusieurs auteurs emploient également le terme soft X-ray lithography pour désigner cette technique nouvelle parce que, sur l'échelle des ondes électromagnétiques, la limite qui sépare les rayons ultraviolets extrêmes des rayons X mous est approximative, et que la longueur d'onde utilisée pour ce type de nanolithographie se situe tout près de cette limite.

  • catalan

    Auteur : Centre de terminologia Termcat, 2008

    Définition

    Tècnica de litografia en què s'utilitzen raigs electromagnètics, d'una longitud d'ona que pot variar entre 10 i 14 nanòmetres, per a reproduir el motiu d'una estructura nanomètrica en una resina sensible, vers la qual són dirigits a través d'una màscara per un sistema de miralls.

    Terme :

    1. litografia per raigs ultraviolats extrems n. f.
  • espagnol

    Auteurs : Grupo Argentino de Terminología, 2007
    Universidad Pontificia Comillas, 2007

    Définition

    Técnica de fotolitografía que consiste en utilizar haces de luz ultravioleta con longitud de onda muy corta dirigidos por un sistema de espejos para proyectar a través de una máscara de tipo esténcil, el motivo de una estructura nanométrica en resina fotosensible depositada sobre el material a estructurar.

    Termes :

    1. litografía ultravioleta extrema s. f. Argentine
    2. litografía extrema-ultravioleta s. f. Espagne
    3. litografía bajo luz ultravioleta extrema s. f. Espagne
    4. litografía con luz ultravioleta extrema s. f. Argentine
    5. litografía sumergida s. f. Espagne
    6. litografía EUV s. f. Espagne
  • italien

    Auteur : Università di Bologna, 2008

    Définition

    Procedimento della fotolitografia che impiega luce ultravioletta a onde cortissime, tra gli 11 e i 14 nanometri.

    Termes :

    1. litografia a ultravioletti estremi s. f.
    2. litografia EUV s. f.
  • portugais

    Auteurs : Instituto de Linguística Teórica e Computacional, 2009
    Grupo de Estudos e Pesquisas em Terminologia – Universidade Federal de São Carlos, 2009

    Termes :

    1. litografia de ultravioletas extremos s. f. Portugal
    2. litografia por ultravioleta extremo s. f. Brésil
    3. litografia por raios X s. f.
  • roumain

    Auteur : Institutul de Lingvistică „Iorgu Iordan – Al. Rosetti”, 2007

    Termes :

    1. litografie soft X-ray s. f.
    2. litografie UV extreme s. f.
    3. litografie cu ultraviolete extreme s. f.

    Litografie cu ultraviolete extreme : termen propus.

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