dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma
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Définition :
Technique de dépôt chimique en phase vapeur dans laquelle on génère dans le mélange initial un plasma dont les électrons à haute énergie vont permettre à une température moindre de décomposer les gaz desquels sont issues les molécules qui viennent se déposer sur une surface.
Notes :
On crée le plasma par la projection de micro-ondes ou par l'application d'un courant électrique dans le mélange gazeux.
La technique du dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma est utilisée entre autres pour la fabrication de nanotubes de carbone et de fibres optiques.
Termes privilégiés :
- dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma n. m.
- dépôt en phase vapeur assisté par plasma n. m.
- dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma n. m.
- dépôt en phase vapeur activé par plasma n. m.
Traductions
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anglais
Auteur : Office québécois de la langue française,Termes :
- plasma-enhanced chemical vapor deposition
- PECVD
- plasma-enhanced CVD
- plasma-assisted chemical vapor deposition
- plasma-assisted CVD
- plasma-activated chemical vapor deposition
- PACVD
- plasma-activated CVD