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gravure par plasma

Domaine
  1. électroniquetechnologie de la fabrication des circuits intégrés
Auteur
Office québécois de la langue française
Dernière mise à jour
1986
  • Accéder à la fiche en anglais : plasma-etching

Définition :

Procédé de gravure par lequel la couche est attaquée par des ions ou des radicaux neutres provenant d'un gaz excité par un champ électromagnétique dans une enceinte à basse pression.

Termes privilégiés :

gravure par plasma n. f.
gravure au plasma n. f.

Traductions

  • anglais

    Auteur : Office québécois de la langue française, 1986

    Termes :

    1. plasma-etching
    2. plasma etching

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