méthode modifiée de dépôt chimique en phase vapeur
- Domaine
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- électroniquefibre optique
- Dernière mise à jour
Définition :
Méthode de dépôt interne en phase vapeur qui consiste à déplacer le chalumeau le long du tube de silice et à former ainsi un dépôt de couche de silice dopée chaque fois que le chalumeau est ramené au point de départ.
Termes privilégiés :
- méthode modifiée de dépôt chimique en phase vapeur n. f.
- procédé de dépôt intérieur modifié n. m.
- méthode modifiée de déposition intérieure n. f.
- procédé en phase vapeur modifié n. m.
- procédé intérieur modifié n. m.
- déposition en phase vapeur modifiée n. f.
- méthode MCVD n. f.
- procédé M. C. V. D. n. m.
- méthode CVD modifiée n. f.
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CVD et MCVD sont les sigles des termes anglais chemical vapor deposition et modified chemical vapor deposition.
Traductions
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anglais
Auteur : Office québécois de la langue française,Termes :
- modified chemical vapor deposition process
- modified chemical vapour deposition process Royaume-Uni
- MCVD process
- modified CVD method
- modified inside vapor phase oxidation process
- MCVD method
Termes associés :
- modified chemical vapor deposition
- MCVD
- modified chemical vapour deposition
- modified inside vapour phase oxidation Royaume-Uni
- MIVPO
Modified chemical vapor deposition, modified chemical vapour deposition et modified inside vapour phase oxidation sont des termes moins précis.