oxydation humide
- Domaine
-
- électroniquesemi-conducteur
Définition :
L'oxydation humide conduisant à des vitesses de croissance élevées utilise la vapeur d'eau comme source d'oxygène. Elle est habituellement utilisée pour la croissance des couches épaisses (0,5 à plusieurs microns).
Note :
Antonyme : oxydation sèche.
Terme :
- oxydation humide n. f.
Traductions
-
anglais
Auteur : IBMOT : banque de données terminologiques,Définition
Oxidation of silicon is achieved by heating silicon wafers in an oxidizing atmosphere such as oxygen or water vapor.
Notes :
Wet oxidation : when the oxidizing atmosphere contains water vapor. The temperature is usually between 900 and 1000 degrees C. This a rapid process.
Antonyme dry oxydation.Terme :
- wet oxidation